Research 研究紹介

ナノバブル、紫外線による表面改質とその応用

材料除去プロセスでは、除去対象である素材の最表面の特性が極めて重要になる。材料最表面の性状を加工手法に合わせて適切に制御(改質)することが可能になれば、材料除去能率の向上や、加工変質層の低減など多くのメリットが見込める。
本研究ではナノバブルや紫外線を利用することで、半導体基板を始めとする様々な材料の表面改質を可能とするプロセスの開発に取り組んでいる。